紫外光刻系统

紫外光刻系统

       PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

产品特点：

· 可达到步进光刻机的高分辨率

· 操作简单性与紫外曝光机相同

· 光子图形化的低成本解决方案

产品优势：

· 高分辨率（低于300nm pitch）

· 全场曝光

· 非接触式：防止掩膜受损及被污染

· 焦深几乎没有限制

· 表面不平的衬底也适用（如外延片）

· 均匀性高

· 具有套刻对准能力

· 商业化的可获得的光刻胶和材料都适用

· 使用传统的掩膜板（玻璃上镀铬）

· 频率倍增

应用：

· LED光萃取层

· 蓝宝石衬底图形化（PSS）

· 磁性纳米结构

· 减反射图形

· 太阳能光伏

· 电通讯光栅

· 光谱仪光栅

· 等离子图案

· 编码器标尺

· 滤色镜

· 生物传感器

Phable紫外光刻机应用实例：

Phable紫外光刻机在图形化蓝宝石衬底（PSS）中的应用

名词解释：图形化蓝宝石衬底Patterned Sapphire Substrates (PSS)

Eulitha公司的PHABLE紫外光刻机是在广泛用于LED生产中的蓝宝石衬底上曝光图形的理解工具。图形化蓝宝石衬底有利于高质量的半导体材料层的 生长，从而得到高性能的LED器件。需要的结构是典型的柱或孔的阵列，一般呈六边形排布，周期为1－3μm（PSS），当制作纳米级图形化蓝宝石衬底 （NPSS——Nano-Patterned Sapphire Substrates）时，周期一般是几百纳米，更精细的结构带来更大的出光效率。大多数蓝宝石样片表面都不平整，使用传统光刻方法，以可接受的成本，很难获得很好的曝光图形，而PHABLE紫外光刻机在蓝宝石衬底上能曝光出这些高分辨的结构，且具有很好的均匀性和重复性。PHABLE紫外光刻机可在四英寸硅片上一次曝光出均匀图形，生产效率非常高。同时，我们可以对涂得很厚的光刻胶进行曝光，以利于下一步轻松地进行蓝宝石衬底的刻蚀。

指标：